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    H 型光電反應釜

    簡要描述:

    H 型光電反應釜此裝置能夠實現控溫耐高壓操作,耐壓 10MPa,采用 316L 不 銹鋼釜體,內部與溶液可能接觸的部位噴涂 PFA,保證了耐高溫<200℃;溫度控制采用的夾 層水浴或油浴控制,熱傳導速度快。

    更新時間:2021-01-11
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    YZEPCR-H H 型光電反應釜又叫: H 型光電反應器、雙通道光電反應器、H 型可換膜光電反應器 此裝置能夠實現控溫耐高壓操作,耐壓 10MPa,采用 316L 銹鋼釜體,內部與溶液可能接觸的部位噴涂 PFA,保證了耐高溫<200℃;溫度控制采用的夾層水浴或油浴控制,熱傳導速度快。反應釜中間可以添加離子膜,用于雙室反應光電反應,也可以當做兩個獨立的光電反應釜使用,實現了一機多用。標配電極為三支,全部采用 PEEK 材料,電極既可以耐溫,又可以耐壓。
    YZEPCR-H H 型光電反應釜參數表:
    項目
    參數
    光電反應釜
    316L 耐腐蝕不銹鋼,內部全部噴涂 PTFE
    H 型雙室反應體系,單室可單獨使用,單室容積 100ml
    耐壓
    <10MPa,含進出氣體閥門
    溫度
    <100℃(水浴控溫),<200(油浴控溫),控溫精度 0.1℃釜體內部
    標配控溫夾層,內部測溫采用 Pt100,含溫度顯示表;通水孔 12mm
    電極
    PEEK 三電極(標配),選配進口耐高溫耐壓參比電極
    通光孔
    Φ40mm,藍寶石(全光譜高透),雙通光孔
    要求離子膜規格
    直徑 50mm
    閥門
    巖征儀器高溫高壓針閥
    密封
    耐高溫密封圈
    光源(選配)
     
    氙燈光源、LED 光源、汞燈光源
    控溫循環機
    (選配)
    循環控制系統
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